氧化層生長臭氧設備現場

臭氧（O?）在氧化層生長中的應用主要集中在半導體制造和材料科學領域。作為一種強氧化劑，臭氧能夠在較低溫度下高效促進氧化反應，生成高質量、均勻且致密的氧化層。在熱氧化工藝中，臭氧通過高溫分解為氧氣，增強氧化效率；在化學氣相沉積（CVD）和原子層沉積（ALD）中，臭氧作為氧化劑，能夠在低溫下實現高精度的氧化層生長，適合熱敏感材料。此外，臭氧還用于等離子體增強化學氣相沉積（PECVD），提升氧化層的均勻性和附著力。在表面處理中，臭氧可清潔和活化基底表面，改善氧化層質量。臭氧的應用優勢在于其低溫工藝特性、高反應活性以及對氧化層厚度和質量的精確控制，廣泛應用于半導體器件、太陽能電池和光學涂層等領域。